Част за имплантиране на волфрамови йони

Описание на частта за имплантиране на волфрамови йони

Йонната имплантация е нова технология за модификация на повърхността на материала, която може да оптимизира повърхностните свойства на материалите или да получи някои нови отлични свойства и играе важна роля в производството на полупроводници и интегрални схеми. Тъй като волфрамовият материал има предимствата на висока плътност, висока точка на топене, стабилни химични свойства при висока температура, малка термична денатурация, добра топлопроводимост и дълъг експлоатационен живот, той се превърна в първия избор за йонни източници и консумативи за йонни имплантанти в полупроводниковата индустрия . Частта за имплантиране на волфрамови йони обикновено се изработва чрез технология на праховата металургия и обикновено включва екраниращ цилиндър на емисионен катод, емисионен панел, централен фиксиран прът и плоча с нажежаема жичка в камерата за иницииране на дъгата. Частта за имплантиране на волфрамови йони може да се използва широко в аерокосмическата индустрия, научните експерименти, металообработката, високотемпературната пещ, рафиниращата сапфир индустрия и керамичната индустрия.

Спецификации на части за имплантиране на волфрамови йони:

Снимки на части за имплантиране на волфрамови йони:

Популярни тагове: част за имплантиране на волфрамови йони, доставчици, производители, фабрика, персонализирани, търговия на едро, цена, оферта, за продажба