Мишена за разпръскване на никел с висока чистота 4N

Описание на целта за разпръскване на никел с висока чистота 4N

4N Nickel Sputter Target с висока чистота е направен от никелов материал с висока чистота след прахова металургия и полиране при коване. Може да се приготви чрез разпрашване, изпаряване с електронен лъч, химическо отлагане на пари или магнетронно разпрашване. Никелови филми с добра чистота, еднородност и силна проводимост се използват в производството на полупроводници и интегрални схеми. 4N Nickel Sputter Target с висока чистота има отлични свойства като висока якост и твърдост, висока точка на топене, добра пластичност, високо повърхностно покритие, устойчивост на корозия, устойчивост на удар, висока електрическа и топлопроводимост, устойчивост на износване, магнитна стабилност и др. да се използва в космическата промишленост, декоративната промишленост, химическата ценова индустрия, енергийната промишленост, производството на автомобили и металургичните инструменти за обработка и други области за разпръскване на необходимите устойчиви на износване, антикорозионни и устойчиви на висока температура метални филми.

Спецификации на никелова мишена с висока чистота 4N:

Снимки на мишени за разпръскване на никел с висока чистота 4N