Цели за изпръскване на алуминиев цинков оксид
Цели за изпръскване на алуминиев цинков оксид
Цели за разпръскване на алуминиев цинков оксид С развитието на прозрачни проводими филми, широко са използвани цели на AZO (Al2O3-ZnO), които могат да заменят ITO. AZO прозрачният проводим филм има пролука на лентата 3.4eV и присъща граница на абсорбция от 360nm, която може да се използва като прозоречен слой материал за тънко-филмови батерии. Неговата широка функция за пролука на лентата може да намали усвояването на светлината от p, n-тип допинг региони и да подобри скоростта на усвояване на светлинната енергия. В същото време AZO прозрачният проводим филм има ниска устойчивост и висока видима светлинна трансмитентност, което го прави добър преден прозрачен слой материал. В същото време AZO има и характеристиките на висока плазмена стабилност, технология за лесна подготовка, и нетоксични и безвредни суровини, което прави AZO по-широко използван в областта на тънкослойните слънчеви клетки.
Алуминиеви цинков оксид пръски цели картина:
Нашата компания може да предостави на клиентите с висока чистота, висока плътност, и равномерно организирани AZO цели, както и обвързващата услуга на AZO цели и бекплани.
Вид | Име на продукт | Формула | Чистота | Топене | Плътност (g/cc) | Налични фигури |
Оксиди | Алуминиев оксид | Al2O3 | 4N | 2045 | 4 | Цел, Частици |
Бисмут(III) Оксид | Bi2O3 | 4N | 820 | 8.9 | Цел, Частици | |
Хром(III) Оксид | Cr2O3 | 4N | 2435 | 5.2 | Цел, Частици | |
Ербиум Оксид | Er2O3 | 4N | 2378 | 8.64 | Цел, Частици | |
Хафний Оксид | HfO2 | 4N | 2812 | 9.7 | Цел, Частици | |
Индий калаен оксид | ИТО | 4N | 1565 | 7.6 | Цел | |
Магнезиев оксид | MgO | 4N | 2800 | 3.58 | Цел, Частици | |
Ниобиев пентоксид | Nb2O5 | 4N | 1530 | 4.47 | Цел, Частици | |
Неодимов(III) Оксид | Nd2O3 | 4N | 2272 | 7.2 | Цел, Частици | |
Никел оксид | НиО | 4N | 1990 | 7.45 | Цел, Частици | |
Скандиев оксид | Sc2O3 | 4N | 2480 | 3.86 | Цел, Частици | |
Силициев оксид | СиО | 4N | 1702 | 2.13 | Цел, Частици | |
Силициев диоксид | СиО2 | 4N | 1610 | 2.2 | Мишена, Частици, Кристал | |
Самариум(III) Оксид | Sm2O3 | 4N | 2350 | 7.4 | Цел, Частици | |
Тантал Пентоксид | Ta2O5 | 4N | 1800 | 8.7 | Цел, Частици | |
Титанов диоксид | TiO2 | 4N | 1800 | 4.29 | Цел, Частици | |
Титанов (V) Оксид | Ti3O5 | 4N | 1750 | 4.57 | Цел, Частици | |
Ванадий(V) Оксид | V2O5 | 4N | 690 | 3.36 | Цел, Частици | |
Итрий(III) Оксид | Y2O3 | 4N | 2680 | 4.8 | Цел, Частици | |
Цинков оксид | ZnO | 4N | 1975 | 5.6 | Цел, Частици | |
Цинков оксид с алуминиев допед | АзО | 4N | \ | 5.4 | Цел | |
Циркониев Диоксид | ZrO2 | 4N | 2700 | 5.5 | Цел, Частици | |
Флуорид | Бариев флуорид | БаФ2 | 4N | 1280 | 4.8 | Цел, Частици |
Калциев флуорид | CaF2 | 4N | 1360 | 3.13 | Цел, Частици | |
Цериев флуорид | CeF3 | 4N | 1418 | 6.16 | Цел, Частици | |
Калиев флуорид | KF | 4N | 880 | 2.48 | Цел, Частици | |
Лантан(III) Флуорид | ЛаФ3 | 4N | 1490 | 6 | Цел, Частици | |
Магнезиев флуорид | MgF2 | 4N | 1266 | 4.2 | Цел, Частици | |
Натриев флуорид | НаФ | 4N | 988 | 2.79 | Цел, Частици | |
Други | Бариев титанат | БаТиО3 | 4N | 1620 | 3.96 | Цел, Частици |
Стронциев титанат | SrTiO3 | 4N | 2080 | 5.12 | Цел, Частици | |
Цинков сулфид | ZnS | 4N | 1830 | 4.1 | Цел, Частици | |
Силициев нитрид | Si3N4 | 4N | Сублимация | 3.44 | Цел, Частици | |
Титан Нитрид | Калай | 4N | 2950 | 5.43 | Цел, Частици | |
Алуминиев нитрид | АлН | 4N | Сублимация | 3.26 | Цел, Частици | |
Бор Нитрид | МИЛИАРДА | 4N | 3000 | 2.25 | Цел, Частици | |
Силициев карбид | Си Си Си | 4N | 2700 | 3.22 | Цел |
Популярни тагове: Алуминиеви цинков оксид Sputtering Цели, доставчици, производители, фабрика, персонализирани, на едро, цена, котировка, за продажба
Изпрати запитване
